क्वार्टज़ बेल जार
• उच्च-शुद्धता क्वार्ट्ज ग्लास निर्माण
• अत्यधिक तापीय स्थिरता
• सुपीरियर रासायनिक जड़ता
• ऑप्टिकल पारदर्शिता
• सटीक मशीनीकृत किनारे
विवरण
अनुप्रयोग फ़ील्ड
सेमीकंडक्टर और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स:
सीवीडी/पीवीडी कक्ष, लिथोग्राफी सिस्टम और वेफर हैंडलिंग उपकरण।
01
फोटोवोल्टिक एवं नवीकरणीय ऊर्जा:
सौर सेल विनिर्माण लाइनें, हाइड्रोजनीकरण रिएक्टर, और सिलिकॉन पिंड भट्टियां।
02
वैक्यूम एवं प्लाज्मा प्रौद्योगिकी:
स्पटरिंग कोटर, प्लाज्मा नक़्क़ाशी मशीन, और इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीकरणकर्ता।
03
अनुसंधान एवं विकास:
विश्वविद्यालय प्रयोगशालाएँ, राष्ट्रीय अनुसंधान संस्थान (उदाहरण के लिए, नैनोमटेरियल संश्लेषण, संलयन ऊर्जा अनुसंधान के लिए), और औद्योगिक अनुसंधान एवं विकास केंद्र।
04
प्रकाशिकी एवं परिशुद्धता उपकरण:
स्थिर, पारदर्शी वातावरण की आवश्यकता वाले लेजर, सेंसर या खगोलीय घटकों के लिए सुरक्षात्मक बाड़े।
05
गुण
|
भौतिक गुण |
मान |
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पवित्रता |
＞99.99% |
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घनत्व |
2.2 ग्राम/सेमी3 |
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पारदर्शिता |
＞90% |
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मोहस कठोरता |
5.5--6.5 |
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विरूपण बिंदु |
1280 डिग्री |
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मृदुकरण बिंदु |
1780 डिग्री |
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एनीलिंग प्वाइंट |
1250 डिग्री |
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विशिष्ट ऊष्मा (20 - 350 डिग्री) |
670 जे/किग्रा. डिग्री |
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तापीय चालकता (20 डिग्री) |
1.4W/m. डिग्री |
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ताप चालकता (w/mk,1000 डिग्री) |
1.0-1.2 |
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अपवर्तनांक |
1.4585 |
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थर्मल विस्तार का गुणांक |
5.5*10 -7सेमी/सेमी. डिग्री |
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गर्म - कार्यशील तापमान |
1750--2050 डिग्री |
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लघु - अवधि सेवा तापमान |
1300 डिग्री |
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लंबी - अवधि सेवा तापमान |
1100 डिग्री |
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रासायनिक गुण |
मान |
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एसिड प्रतिरोधी |
प्रबल अम्ल (एचएफ को छोड़कर), प्रबल क्षार, कार्बनिक घोल |
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उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोधी |
उत्कृष्ट |
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धातु अशुद्धता सामग्री |
＜5 पीपीएम |
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विद्युत गुण |
मान |
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प्रतिरोधकता |
7*107Ω.सेमी |
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इन्सुलेशन ताकत |
250~400Kv/सेमी |
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पारद्युतिक स्थिरांक |
3.7~3.9 |
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ढांकता हुआ अवशोषण गुणांक |
＜4*10-4 |
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ढांकता हुआ हानि गुणांक |
＜1*10-4 |
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यांत्रिक विशेषताएं |
मान |
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सम्पीडक क्षमता |
1100MPa |
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झुकने की शक्ति |
67 एमपीए |
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तन्यता ताकत |
48 एमपीए |
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पिज़ोन अनुपात |
0.14~0.17 |
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यंग मापांक |
72000MPa |
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अपरूपण - मापांक |
31000MPa |
शिपिंग
अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
Q1: क्या क्वार्ट्ज बेल जार का उपयोग हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड (एचएफ) के साथ किया जा सकता है?
A1: नहीं। HF, SiO2 के साथ प्रतिक्रिया करके सिलिकॉन टेट्राफ्लोराइड (SiF₄) बनाता है, जिससे अपरिवर्तनीय क्षति होती है। एचएफ युक्त प्रक्रियाओं के लिए पीटीएफई या फ्लोरोप्लास्टिक कक्षों का उपयोग करें।
Q2: क्या क्वार्ट्ज बेल जार को उच्च वैक्यूम के तहत सील किया जा सकता है?
ए2: हां, जब संगत गास्केट (उदाहरण के लिए, अल्ट्रा{3}}उच्च वैक्यूम के लिए तांबा, निम्न/मध्यम वैक्यूम के लिए विटॉन) और फ्लैंज (10⁻¹⁰ एमबार के लिए आईएसओ-सीएफ, 10⁻⁶ एमबार के लिए आईएसओ-केएफ) के साथ जोड़ा जाता है। सुनिश्चित करें कि सीलिंग सतहें साफ और खरोंच से मुक्त हों।
Q3: क्या क्वार्ट्ज सामग्री यूवी प्रकाश को अवरुद्ध करती है?
ए3: नहीं{{1}क्वार्ट्ज यूवी प्रकाश को 200 एनएम तक संचारित करता है, जो इसे यूवी संवेदनशील अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाता है। यूवी अवरूद्धीकरण आवश्यकताओं के लिए, विशेष लेपित क्वार्ट्ज या वैकल्पिक सामग्री उपलब्ध हैं (कस्टम समाधान के लिए हमसे संपर्क करें)।
Q4: क्या मैं क्वार्ट्ज़ बेल जार में छेद कर सकता हूँ या पोर्ट जोड़ सकता हूँ?
A4: हाँ, हमारे कारखाने द्वारा सटीक मशीनिंग के माध्यम से। संरचनात्मक अखंडता और वायुरोधीता सुनिश्चित करने के लिए अनुकूलन के दौरान पोर्ट आकार, स्थान और प्रकार (गैस इनलेट, इलेक्ट्रिकल फीडथ्रू, व्यूपोर्ट) निर्दिष्ट करें।
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